研究员
韦亚一
  • 所属院校:
    中国科学院微电子研究所
  • 所属院系:
    --
  • 研究领域:
    193nm浸没式光刻工艺；光学邻近效应修正（opticalproximitycollection）；光刻材料研发和评估；匀胶显影设备（track）研发科研项目 （1）90nm前道匀胶显影机,主持,国家级,2012-01--2015-12 （2）14nm光刻仿真优化和光刻技术研究,主持,国家级,2016-01--2018-12 （3）22nmFDSOI光刻技术和OPC研究,主持,国家级,2017-01--2019-12 （4）5nm光刻技术方案与设计规则优化,主持,国家级,20...
  • 职称:
    研究员
  • 导师类型:
    --
  • 招生专业:
    --
个人简介

个人简介

教育背景： 1998毕业于德国马普固体所/德国斯图加特大学，获理学博士学位 1992毕业于中国科学院电子学研究所，获工学硕士学位 工作简历： 2013年–至今：中国科学院微电子研究所研究员、博士生导师；国家科技重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备”首席科学家（沈阳芯源微电子设备公司）。 2009年–2013年：美国格罗方德纽约研发中心光刻经理。 2007年–2008年：美国安智公司新泽西研发中心，高级科学家(SeniorStaffScientist)。 2001年–2007年：德国英飞凌公司美国纽约研发中心，高级工程师(Senior/StaffEngineer)。 1998年–2001年：美国能源部橡树岭国家实验室，博士后

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