研究员
袁凯
  • 所属院校:
    电子科技大学
  • 所属院系:
    光电科学与工程学院
  • 研究领域:
    肖特基TTL电路多层电极技术研究;难熔金属及硅化物技术研究;高温定薄膜电阻技术研究;VLSI高性能LDDMOSFET工艺研究;特种内存多层多晶结构的生成、及腐蚀工艺研究;特种内存优质薄层栅氧化特性研究;抗辐照工艺技术研究;红外焦平面双阈值、双层多晶工艺技术研究;现从事研究方向:MEMS工艺技术研究;光电集成器件技术研究等。
  • 职称:
    研究员
  • 导师类型:
    --
  • 招生专业:
    --
个人简介

个人简介

1982年7月毕业于天津市南开大学物理系,2001年结业于吉林大学在职研究生班。 1982年于沈阳某微电子研究所参加工作: 1982年~1985年,任离子注入工艺技术员 1985年~1993年,负责蒸发、溅射工艺技术负责。 1991年~1994年,从事器件工程师工作,先后承担过若干种NMOS、CMOS电路的研制工作,负责器件的工艺设计、工艺串线及工艺调整。 1995年~1999年任研究所芯片研制中心工艺线线长,负责工艺线所有器件(包括NMOS、CMOS、TTL器件)的工艺设计,工艺实施、工艺调整及生产管理。高级工程师 1999年~2001年,任研究所芯片研制中心副主任。研究员 2001年~2006年任研究所芯片研制中心主任。 2006年任研究所副总工师。 2006年任电子科技大学光电信息学院研究员。

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