副教授
张权治
  • 所属院校:
    大连理工大学
  • 所属院系:
    物理学院
  • 研究领域:
    粒子模型(PIC/MC),刻蚀模型,Comsol流体,0D化学反应模型-数值建模 射频容性耦合等离子体源中电子加热机制 脉冲调制容性放电物理机理 多孔材料-等离子体低温刻蚀技术研究(与IMEC合作) 等离子体刻蚀中充电效应的数值模拟研究 射频容性耦合等离子体/感性耦合等离子体中的电非对称效应(多频偏置技术) 直流/射频容性耦合等离子体刻蚀机-放电机制模拟 大气压流柱放电机制模拟
  • 职称:
    副教授
  • 导师类型:
    硕导/博导
  • 招生专业:
    --
个人简介

个人简介

大连理工大学-副教授(2019年7月入职),大连理工大学“星海青千”(人才计划)。2014年6月,分别在大连理工大学和比利时-安特卫普大学(University of Antwerp)获得双博士学位。2014年8月-2016年5月,曾工作在华为技术有限公司-2012实验室。2016年6月-2019年6月,在比利时-安特卫普大学从事博士后研究工作三年 (前两年是玛丽居里学者)。 主要是针对低温等离子体技术中的关键物理问题及关键技术开展科学研究,如等离子体源电非对称效应问题的研究和等离子体刻蚀多孔材料问题的研究。 在低温等离子体物理中的物理建模、PIC/MC的模型(1、2维隐格式)、大规模并行计算、以及相关的数值仿真模拟有着独到的见解和创新,目前在Physical Review Letters, Plasma Sources Science and Technology, Applied Physics Letters等期刊上发表SCI论文27篇,论文总引用超过150次,其中2篇文章的他引超过30次。 结合模拟和实验工作,首次验证了双频 容性耦合等离子体 中的无碰撞“反弹共振加热机制”,并通过数值模拟揭示了这种加热机制的物理图像。该研究成果发表在国际顶级期刊 Phys. Rev. Lett. (JCR 1 区)上(全权负责理论模拟,皆为论文的第二作者;第一作者为实验负责人)。 针对多孔材料的等离子体低温刻蚀的系统研究,引起了国内外的广泛关注,知名的半导体技术网站“SEMICONDUCTOR ENGINEERING”对该课题进行了专题报道https://semiengineering.com/cryogenic-etch-re-emerges/。 2016年获得欧盟地平线2020玛丽居里奖-‘玛丽居里学者’(Horizon 2020 - MARIE CURIE ACTIONS: Individual Fellowship),该奖项是欧洲竞争最为激烈的青年基金(2016年的总申请人数6667人,资助率仅为14.2%)。 2019年,被德国波鸿-鲁尔大学(Ruhr-Universität Bochum;RUB) 聘为‘墨卡托学者’(Mercator Fellow)-外聘专家。 长期与国内外开展相关研究的课题组保持着紧密联系,如比利时University of Antwerp 大学的Annemie Bogaerts(欧洲科学院院士)团队、德国Ruhr-Universität Bochum大学的Uwe Czarnetzki (Plasma Sources Science and Technology主编)团队,以及欧洲微电子研究中心(IMEC);合作形式主要表现在合作研究科学难点、共同发表学术论文、协助指导研究生等。 招生专业:物理、数学、计算机、电气、力学、化工 教育经历: 2005.09-2009.07 大连理工大学 物理与光电工程学院 应用物理 学士 2009.09-2014.07 大连理工大学 物理与光电工程学院 等离子体物理 博士 2013.10-2014.04 比利时-安特卫普大学 化学学院 等离子体化学 博士(联合培养-双博士学位) 工作经历: 2014.08-2016.05华为技术有限公司(2012实验室) 研究工程师 2016.06-2019.06比利时-安特卫普大学 博士后(玛丽居里学者) 兼职经历: 2013.03-2013.04,中微半导体设备有限公司(上海)数值模拟工程师(实习) 2012.07-2012.11,大连英特尔(Fab68)芯片厂 工艺工程师(实习)

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